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日本半导体曝光设备光源领域的大型厂商:好运城官网

好运城平台 国际 2021年01月10日
本文摘要:日本半导体曝光设备光源领域的大型厂商Gigaphoton称其EUV光源扫描仪搭建了倒计时运行和平滑升空:激光驱动等离子体光源样机搭建了约108W的输入,平均能量稳定性为0.5%。Gigaphoton副总裁兼首席技术官HakaruMizoguchi回应:我们成功研发了一款EUV光源扫描仪,可连续工作24小时,输入功率约108W,可见我们类似于EUV光源的研发,已经完成了低成本、低输入、稳定运行;而这正是半导体厂商所需要的。

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日本半导体曝光设备光源领域的大型厂商Gigaphoton称其EUV光源扫描仪搭建了倒计时运行和平滑升空:激光驱动等离子体光源样机搭建了约108W的输入,平均能量稳定性为0.5%。Gigaphoton副总裁兼首席技术官HakaruMizoguchi回应:我们成功研发了一款EUV光源扫描仪,可连续工作24小时,输入功率约108W,可见我们类似于EUV光源的研发,已经完成了低成本、低输入、稳定运行;而这正是半导体厂商所需要的。

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这一成果是基于一些关键技术,如能够分解直径小于等于20微米锡溶液的液滴发生器、固态实脉冲和主脉冲CO2激光器、利用磁场和能量控制技术的碎片减缓技术等。位于日本大阪的EUV雕刻基础设施研发中心(EIDEC)也用于Gigaphoton公司的EUV光源。

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Gigaphoton计划在2015年底前研制出250W的低输入实验装置,这也是大规模生产内存储设备所需的技术。沟口回应:我可以同意,当我们把这项技术推向市场的时候,也就是下一代曝光技术经常出现的时候;同时,我也坚信,它将大大提高半导体的性能,作为对抗信息技术的核心技术,它将为行业的发展带来划时代的贡献。


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标签:   半导体   光源   领域   设备   曝光   日本   大型